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  硬質陽極氧化設備涉及哪些因素?H2SO4濃度。H2SO4濃度會對阻擋層厚度、溶液電導率、硬質陽極氧化設備漆膜的耐腐蝕性和耐磨性以及后處理后的密封質量產生一定的影響。H2SO4濃度阻擋層的厚度保持耐電壓腐蝕和耐磨性。氣化膜質量灰白疏松，膜孔外徑大，密封困難。在浴槽溫度硬質陽極氧化設備的過程中，部分電能將轉化為熱能，浴液溫度將繼續上升。隨著溫度的升高，薄膜損耗增加，薄膜質量變差，耐磨性降低。特別是對于15um以上的膠片，即使在空氣中，也會出現粉化現象。因此，有必要冷卻浴液以保持適當的溫度。一般而言，隨著鍍液溫度的升高，硬質陽極氧化膜的重量減輕，膜層變得柔軟明亮。

  鍍液溫度高時，氧化膜外層的孔徑和程度變大，密封困難，容易產生密封粉末。當鍍液溫度較高時，硬質陽極氧化膜容易染色。但是，很難保持相同的顏色深度。因此，染色膜硬質陽極氧化溫度一般為20~25℃。當溫度降低時，氧化膜硬度高，耐磨性好。在硬質陽極氧化過程中，維持電流密度所需的電壓高，能耗高。因此，常用的硬質陽極氧化方法為18~22℃。

  硬質陽極氧化電壓決定了氧化膜的孔徑，表明低壓形成的膜孔徑小，孔數大，高壓形成的膜孔徑大，孔數少。在一定范圍內，高壓有利于形成致密均勻的膜。