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  如何去除導電氧化處理后的氧化層?

  噴砂處理：鈦鑄件一般采用白剛玉。噴砂壓力小于非貴金屬，一般控制在0.45MPa以下。當注射壓力過高時，砂粒撞擊鈦表面產生強烈火花。溫度升高會與鈦表面發生反應，形成二次污染，影響鈦表面質量。時間為15~30秒，只有表面的砂、燒結層、部分和導電氧化層。其余表面反應層結構應通過化學酸洗迅速去除。酸洗：酸洗能快速徹底去除表面反應層，不污染表面其他元素。hf-hcl和hf-hno3酸洗液均可用于鈦酸洗，但hf-hcl酸洗液吸氫能力大，hf-hno3系統酸洗液吸氫能力小。控制硝酸濃度，降低吸氫量，拋光表面。一般來說，HF濃度約為3%~5%，HNO3濃度約為15%~30%。

  化學拋光：金屬化學介質中化學拋光導電氧化還原反應達到平整拋光的目的。該方法的優點是化學拋光與金屬硬度無關，拋光面積與結構形狀無關。所有與拋光液接觸的零件都被拋光。它不需要特殊的復雜設備，操作簡單。對結構復雜的鈦義齒托槽進行拋光。但化學拋光的工藝參數難以控制，在不影響義齒精度的前提下，對義齒有很好的拋光效果。鈦化學拋光液是HF和HNO3按一定比例混合使用的。HF是一種還原劑，能溶解鈦，起到平整作用。硝酸濃度為10%。硝酸可以防止鈦的過度溶解和吸氫，導電氧化可以產生光。拋光溫度高，拋光時間短，拋光時間短(1分鐘)。