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  硬質(zhì)陽極氧化處理采用DC電源或疊加DC和交流電源。解決方法有很多種，常用硫酸進(jìn)行硬質(zhì)陽極氧化。采用硫酸硬陽極氧化法時(shí)，應(yīng)考慮影響氧化膜的各種因素。

  (1)硫酸氧化處理的濃度：常用200-250 g/L，槽液相對(duì)密度(室溫下)為1.12-1.15。

  (2)水：水是硬質(zhì)陽極氧化處理的主要成分，一般用蒸餾水或冷開水代替自來水，因?yàn)樽詠硭泻新入x子，當(dāng)Cl- 1%時(shí)，其部分會(huì)發(fā)生腐蝕，在氧化過程中出現(xiàn)白斑。

  (3)氧化處理溫度：溫度是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素之一。通過嚴(yán)格控制溫度，氧化膜增厚，硬度提高，光滑致密。

  (4)電流密度：電流也是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素之一，與氧化膜的形成速度和結(jié)構(gòu)有很大關(guān)系。當(dāng)電流密度過低時(shí)，氧化膜的形成速度慢，處理時(shí)間增加。相反，如果過高，溶液和電極會(huì)因焦耳效應(yīng)而過熱。氧化膜溶解速度加快，硬度降低，表面粗糙、疏松、粉末狀。

  (5)初始電壓和處理時(shí)間：硬質(zhì)陽極氧化處理的初始電壓和時(shí)間對(duì)氧化膜的質(zhì)量也有很大影響。如果初始電壓過高，會(huì)導(dǎo)致電流增加，焦耳熱和產(chǎn)生的熱量急劇增加，從而導(dǎo)致溶解速率急劇增加，而氧化膜會(huì)變軟、變暗、呈粉末狀且不耐磨。至于氧化處理時(shí)間，氧化膜的厚度通常隨著氧化處理時(shí)間的延長而增加，但是在一定時(shí)間后，如果施加的電壓不增加，氧化膜實(shí)際上不會(huì)增加。如果時(shí)間延長，氧化膜的硬度會(huì)很低，會(huì)變得疏松、粉末狀。相反，氧化處理時(shí)間會(huì)太短，氧化膜會(huì)很薄，不耐磨。

  (6)氧化處理液的攪拌：攪拌速度與氧化膜的形成速度(氧化膜的質(zhì)量)有關(guān)。